檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "技術".ckeyword (精準) and ckeyword.raw="光學鄰近修正"
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由於極紫外光微影系統技術開發上仍有困難,無法立即取代現有生產線上ArF-193nm浸潤式微影系統微影製程生產,因此吸引許多研究者尋找改善方案,其中可利用光源光罩最佳化程序搜尋最佳的光罩圖案設計與對應…
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幾十年來半導體工業仰賴微影光學將電路圖案之設計轉印至晶圓基板上,隨著電路設計圖樣日益縮小,目前已逼近至微影製程的光學極限,解析度增強技術(resolution enhancement techniq…
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在各國因應物聯網、大數據、高效能運算等的市場開發,仰賴大量DRAM 元件所需要大量計算及記憶體空間,隨著對DRAM 的需求增加和引入升級產品的需求,DRAM 市場將在未來幾年見證增長,全球市場競爭激…